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高真空磁控溅射仪
来源：未知
发布时间：2016-10-09
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高真空磁控溅射仪
主要由溅射真空室、磁控溅射靶、自转基片台、加热系统、直流电源、射频电源、工作气路、真空获得系统、安装机台、真空测量、水冷却及报警系统和控制系统等部分组成。具有3套高性能永磁共焦磁控溅射靶，溅射靶角度可调，分布在一个圆周上，各靶可独立/顺次/共同工作，可拆卸。该设备可用于金属薄膜、金属氧化物薄膜、多元化合物薄膜、高分子材料薄膜等的制备。
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